[https://lucky-xiaohu.gitbooks.io/eclipse4-rcp-tutor/content/chapter8/chapter8.html](https://lucky-xiaohu.gitbooks.io/eclipse4-rcp-tutor/content/chapter8/chapter8.html) [https://lucky-xiaohu.gitbooks.io/eclipse4-rcp-tutor/content/](https://lucky-xiaohu.gitbooks.io/eclipse4-rcp-tutor/content/) e4是位于底层的Equinox、EMF、SWT/JFace和上层的Eclipse应用(Plugin、RCP、RAP等)之间的一个应用开发平台。 从RCP的角度来说，e4的一个主要目标就是更轻松地编写和重用组件。 为了实现这个目标，与之前的Eclipse平台相比，e4带来的新特性主要包括：： * 基于EMF的应用模型(Application Model)； * 依赖注入 * 基于CSS定义外观 在 Eclipse 平台 UI 的早期版本中，workbench 被显式地硬编码来布局 workbench 窗口、workbench 页面、编辑器区域或视图堆栈。e4 引入了额外的一层，可将UI元素提取和抽象成一个模型。应用程序可以重新配置或扩展这个模型来制作不同的外观。这个模型也可被动态操纵；模型的改变可以立即反映出 UI 的变化。 e4的模型的特性为： * 基于抽象描述 * 可以在运行时(runtime)更改 * 支持扩展